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Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
若想在OpticStudio中產生Jones Matrix表面,在序列模式(Sequential ray tracing)下,Jones Matrix可在表面
型
態(Surface Type)
選
單中
選
取; 而在非序列模式(non-Sequential ray tracing)中,則是以物件
型
態(Object Type)的方式呈現。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
此文件夾的位置顯示在文件
選
項中..項目偏好...文件夾:Ince-Gaussian 模態對於具有橢圓對稱增益孔徑的雷射腔設計,近軸波動方程的適當解由 Ince-Gaussian 模態提供。這些模態的電場
分
佈可以寫成 Ince 多項式。 Miguel A. Bandres 和 Julio C.
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
許多設計過程需要兩種不同的光學理論/算法來
分
別處理光束在自由空間和微結構中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目標。由於模擬
技術
發展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求,請隨時與我們聯繫,我們可以相應地更新本文。
2188
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
儘管它在OCT系統的
類
型
之間有所不同,但深度掃描通常由參考鏡執行,以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差(OPD)。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。
2222
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何使用ZOS-API創建飛行時間用戶分析
連接應用程式和 OpticStudio 有 4 種程式模式,但它們可以
分
為兩大
類
: 完全控制(獨立(Standalone)模式和自訂擴展(User Extensions)模式),這種情況下,使用者通常完全控制鏡頭設計和使用者介面。 有限訪問(自訂運算元(User Operands)模式和自訂分析模式),這種情況下,使用者使用現有鏡標頭檔的副本進行處理和分析。
2080
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
但人眼系統具有相對較小的光瞳尺寸,因此在此
類
系統的設計上,一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理,其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程
技術
的演進,光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時,OpticStudio具有優越的運算能力,可以進行規模較大的系統和更多影像參數的模擬。得益於此,眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善,我們將在以下的文章中詳述。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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